Desde a criação do primeiro microchip que não mais se parou de miniaturizar cada vez mais estes essenciais componentes electrónicos responsáveis pelo mundo actual em que vivemos. Com o seu tamanho a aproximar-se do limite da tecnologia actual, eis que o extreme ultra violet surge como esperança para permitir que os transístores existentes dentro dos chips continuem a ter tamanhos cada vez mais reduzidos.
A lei de Moore diz que a densidade dos transístores duplica a cada 18-24 meses, e que muitas vezes tem sido equiparada à duplicação da potência de um CPU. Para que tal aconteça, têm que diminuir constantemente de tamanho. O processo de criação de um chip consiste em projectar uma imagem dos circuitos em rodelas de silício, sendo que a sua densidade está limitada pela capacidade de projectar imagens com resolução suficiente para isso - algo que começa a ser complicado quando estamos a falar de elementos na ordem dos 10-20 nanómetros.
Tal como no caso dos discos ópticos, onde os lasers infra-vermelhos deram lugar a lasers azuis (Bluray) que permitem uma maior precisão e densidade de informação, também nos chips a evolução passou pela migração para luz com comprimento de onda mais curta. Actualmente utiliza-se luz ultra-violeta de 193nm para criar chips com 28nm; mas para se poderem para criar chips à escala de 10nm, será preciso entrar na luz ultra-violeta mais profunda, com comprimentos de onda na ordem dos 13nm. Uma "luz" que infelizmente é bastante complexa de criar, e onde nem sequer se podem usar lentes para a controlar, mas unicamente espelhos.
A ASML - maior fornecedor de material fotolitográfico para esta área - está a fazer enormes avanços na utilização desta luz UEV e espera que em 2015 comece a ser possível utilizar esta tecnologia para criar chips a escalas mais reduzidas, permitindo aumentar drasticamente aquilo que será possível condensar dentro de cada um destes chips.
... Parece que Moore poderá permanecer descansado por mais alguns anos...
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